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先週の知財ニューストピックス(10月28日〜11月3日)

11月5日(火)配信

 先週(10月28日〜11月3日)は海外から、半導体の製造にかかわる特許をめぐって侵害を受けたとして互いを提訴し合っていた台湾積体電路製造(TSMC)とグローバルファウンドリーズ(GF)が和解したことなどが報じられ、注目を集めた。
 国内では、特許侵害の疑いで工場などの立ち入り検査が可能となる改正特許法などを来年4月1日に施行することを政府が決定した。

TSMCとGFが特許訴訟で和解、クロスライセンス契約締結へ

 半導体受託生産最大手の台湾積体電路製造(TSMC)と同業大手のグローバルファウンドリーズ(GF)は10月29日(米国時間28日)、半導体の製造にかかわる特許をめぐり、侵害を受けたとして相互に起こしていた訴訟を取り下げると発表した。両社は共同発表で、クロスライセンス契約を締結することなどで合意したと発表した。この中には、今後10年間にわたって申請する特許も含まれるという。
 両社の争いは、GFが8月26日、TSMCを米国際貿易委員会(ITC)と米独の裁判所に提訴したことで勃発。その後、TSMCが反訴していた。

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改正特許法など、来年4月に施行

 特許侵害が疑われる場合に工場などの立ち入り検査が可能となる改正特許法など(「特許法等の一部を改正する法律」)の施行日を2020年4月1日とすることを、政府が11月1日の閣議で決定した。
 改正特許法では、特許権を侵害したことが疑われる側の工場などに裁判所が指名した専門家が立ち入り調査を行うことができる制度の創設や、損害賠償額の算定方法の見直しなどが盛り込まれている。
 改正意匠法では、クラウド上に保存されてネットワーク上で提供される画像などの、物品に記録・表示されていない画像まで保護対象を拡大している。建築物の外観・内観デザインも保護対象となった。さらに、関連意匠の出願可能期間を本意匠の出願日から10年以内まで延長するほか、意匠権の存続期間を「登録日から20年」から「出願日から25年」に変更するなどの改正も加えられた。
 これらの法律は、5月10日の衆院本会議において全会一致で可決、成立していた。

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日台の窓口機関、特許審査などの相互協力で覚書

 日本の対台湾窓口である日本台湾交流協会と、台湾側の対日窓口である台湾日本関係協会が10月30日、特許審査分野における相互協力に関する覚書を交わした。特許庁が31日に発表した。
 両協会は、2020年5月1日から特許審査ハイウェイ(PPH)プログラムを本格実施することで合意。特段の事情がない限り、継続利用が可能になる。両者はPPHの試行プログラムを2012年5月から実施していた。本格実施に伴う手続き要件などの変更はないという。
 両者は、経済や貿易について話し合う「日台貿易経済会議」を29、30日に都内で開催していた。

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海賊版リーチサイト、二審も実刑判決

 ネットユーザーを人気漫画などの無断掲載サイトへと誘導するリーチサイト「はるか夢の址」を運営したとして著作権法違反罪に問われた3人の被告の控訴審判決が11月1日に大阪高裁であった。複数メディアの報道によると、判決では、いずれの被告も有罪とした一審判決を支持し、被告側の控訴を棄却したという。
 一審判決では、いずれの被告も実刑判決が言い渡されていた。

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小野薬品、本庶氏との交渉に進展なし、との報道

 産経新聞は10月31日、がんの免疫治療薬「オプジーボ」の特許料の配分などをめぐる本庶佑・京都大学特別教授と小野薬品工業の交渉について、同社の相良暁社長が「進展がない」ことを明かしたと報じた。同日発表された2020年3月第2四半期の決算会見で明らかにしたという。

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