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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

(ランキング更新日:2020年7月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-257436 石英部材 2011年12月22日
特開 2011-258622 プラズマ処理装置及びその誘電体窓構造 2011年12月22日
特開 2011-258218 脈動軽減装置及び検査装置 2011年12月22日
特開 2011-258924 基板位置決め装置、基板処理装置、基板位置決め方法及びプログラムを記録した記憶媒体 2011年12月22日
再表 2010-1938 プラズマ処理装置、プラズマ処理方法および誘電体窓の温度調節機構 2011年12月22日
特開 2011-258925 基板処理装置、基板処理方法及びプログラムを記録した記憶媒体 2011年12月22日
特開 2011-254063 薄膜の形成方法及び成膜装置 2011年12月15日
特開 2011-254016 基板液処理装置 2011年12月15日
特開 2011-254107 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 2011年12月15日
特開 2011-253844 基板処理装置のデータ取得方法及びセンサ用基板 2011年12月15日
特開 2011-254019 基板液処理装置 2011年12月15日
特開 2011-253899 疎水化処理方法及び疎水化処理装置 2011年12月15日
特開 2011-253897 基板処理システム及び基板処理方法 2011年12月15日
特開 2011-253842 蓋体保持治具 2011年12月15日
特開 2011-254057 熱処理装置及び熱処理方法 2011年12月15日

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2011-257436 2011-258622 2011-258218 2011-258924 2010-1938 2011-258925 2011-254063 2011-254016 2011-254107 2011-253844 2011-254019 2011-253899 2011-253897 2011-253842 2011-254057

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