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東京エレクトロン株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第53位 714件 上昇2011年:第62位 621件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第37位 902件 上昇2011年:第41位 739件)

(ランキング更新日:2020年2月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-256645 基板搬送容器の開閉装置、蓋体の開閉装置及び半導体製造装置 2012年12月27日
特開 2012-256745 液処理装置および液処理方法 2012年12月27日
特開 2012-256743 液処理装置および液処理方法 2012年12月27日
特開 2012-256660 誘導結合プラズマ用アンテナユニットおよび誘導結合プラズマ処理装置 2012年12月27日
特開 2012-256907 シリコンに対する誘電材料の選択エッチング方法及びシステム 2012年12月27日
特開 2012-255203 成膜方法及び成膜装置 2012年12月27日
特開 2012-256643 相変化メモリ及び相変化メモリの製造方法 2012年12月27日
特開 2012-251178 成膜装置、成膜速度算出方法、成膜方法、及び有機発光素子の製造方法 2012年12月20日
特開 2012-253376 アモルファスカーボン膜の形成方法および形成装置 2012年12月20日
特開 2012-253313 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 2012年12月20日
特開 2012-248695 基板反り除去装置、基板反り除去方法及び記憶媒体 2012年12月13日
特開 2012-248634 温度測定装置、温度測定方法、記憶媒体及び熱処理装置 2012年12月13日
特開 2012-248631 温度測定装置、温度測定方法、記憶媒体及び熱処理装置 2012年12月13日
特開 2012-248788 プラズマ処理装置及びそのガス供給方法 2012年12月13日
特開 2012-248759 半導体装置の製造方法 2012年12月13日

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