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東京エレクトロン株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第58位 686件 上昇2013年:第60位 712件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第48位 694件 下降2013年:第45位 796件)

(ランキング更新日:2020年4月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年  2012年  2013年  2015年  2016年  2017年  2018年  2019年  2020年 

公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2014-241382 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 2014年12月25日
特開 2014-241319 基板処理方法及び基板処理装置 2014年12月25日
特開 2014-239182 微細構造形成方法、半導体デバイスの製造方法、及びCMOSの形成方法 2014年12月18日 共同出願
特開 2014-239195 基板処理方法、基板処理装置及び記憶媒体 2014年12月18日
特開 2014-238194 乾燥装置及び乾燥処理方法 2014年12月18日 共同出願
特開 2014-238341 測定対象物の厚さ計測方法 2014年12月18日
特開 2014-237866 マグネトロンスパッタ装置 2014年12月18日
特表 2014-534641 スパイクアニールプロセスを制御する方法及びシステム 2014年12月18日
特開 2014-237557 カーボンナノチューブ成長方法 2014年12月18日
特開 2014-236148 有機分子膜の形成装置および形成方法 2014年12月15日
特開 2014-236079 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 2014年12月15日
特開 2014-236192 酸化マンガン膜の形成方法 2014年12月15日
特開 2014-236055 エッチング方法 2014年12月15日 共同出願
特開 2014-236081 液処理装置 2014年12月15日
特開 2014-236060 冷却システム、冷却方法、および基板処理装置 2014年12月15日 共同出願

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2014-241382 2014-241319 2014-239182 2014-239195 2014-238194 2014-238341 2014-237866 2014-534641 2014-237557 2014-236148 2014-236079 2014-236192 2014-236055 2014-236081 2014-236060

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