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東京エレクトロン株式会社

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  2017年 出願公開件数ランキング    第83位 585件 下降2016年:第61位 616件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第66位 431件 下降2016年:第49位 561件)

(ランキング更新日:2020年2月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2017-226863 ガス混合装置および基板処理装置 2017年12月28日
特開 2017-226894 プラズマ成膜方法およびプラズマ成膜装置 2017年12月28日
特開 2017-226898 基板処理装置 2017年12月28日
特開 2017-228230 基板処理システムおよび温度制御方法 2017年12月28日
特開 2017-228354 マイクロ波供給装置、プラズマ処理装置、及び、プラズマ処理方法 2017年12月28日
特開 2017-228395 プラズマ処理装置 2017年12月28日
特開 2017-228459 プラズマ調整用の支援装置、プラズマ調整方法及び記憶媒体 2017年12月28日
特開 2017-228557 搬送装置および搬送方法、ならびに検査システム 2017年12月28日
特開 2017-228558 プラズマ処理装置、及び波形補正方法 2017年12月28日
特開 2017-228579 被処理基板の載置位置の設定方法及び成膜システム 2017年12月28日
特開 2017-228580 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 2017年12月28日
特開 2017-228613 基板処理装置、基板処理装置の洗浄方法及び記憶媒体 2017年12月28日
特開 2017-228633 補強構造体、真空チャンバー、およびプラズマ処理装置 2017年12月28日
特開 2017-228690 エッチング処理方法 2017年12月28日
特開 2017-228696 基板載置装置及び基板載置方法 2017年12月28日

593 件中 1-15 件を表示

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