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東京エレクトロン株式会社

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  2020年 出願公開件数ランキング    第47位 175件 上昇2019年:第58位 660件)

  2020年 特許取得件数ランキング    第73位 96件 下降2019年:第58位 415件)

(ランキング更新日:2020年3月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
再表 2018-221290 ゲッタリング層形成装置、ゲッタリング層形成方法及びコンピュータ記憶媒体 2020年 3月26日
再表 2019-9123 基板処理方法及び基板処理システム 2020年 3月26日
再表 2019-31374 基板処理方法及び基板処理システム 2020年 3月26日
特開 2020-45538 成膜方法及び成膜装置 2020年 3月26日
特開 2020-45548 成膜方法及び成膜装置 2020年 3月26日
特開 2020-46549 マスクの形成方法 2020年 3月26日
特開 2020-47499 プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 2020年 3月26日
特開 2020-47624 基板載置機構、成膜装置、および成膜方法 2020年 3月26日
特開 2020-47638 基板支持体及び基板処理装置 2020年 3月26日
特開 2020-47707 載置台及び基板処理装置 2020年 3月26日
特開 2020-47828 基板処理装置および基板処理方法 2020年 3月26日
特開 2020-47849 検査装置及び検査方法 2020年 3月26日
特開 2020-47860 検査装置及び検査方法 2020年 3月26日
特開 2020-47863 載置ユニット及び処理装置 2020年 3月26日
特開 2020-47864 埋め込み方法及び処理システム 2020年 3月26日

176 件中 1-15 件を表示

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2018-221290 2019-9123 2019-31374 2020-45538 2020-45548 2020-46549 2020-47499 2020-47624 2020-47638 2020-47707 2020-47828 2020-47849 2020-47860 2020-47863 2020-47864

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