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東京エレクトロン株式会社

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  2016年 出願公開件数ランキング    第61位 616件 下降2015年:第56位 677件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第49位 561件 上昇2015年:第51位 433件)

(ランキング更新日:2020年7月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2016-539362 化学的研磨平坦化の方法 2016年12月15日
特開 2016-211044 めっき処理方法および記憶媒体 2016年12月15日
特開 2016-211070 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材 2016年12月15日
特開 2016-211071 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材 2016年12月15日
特開 2016-211072 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材 2016年12月15日
特開 2016-212008 基板の検査方法、基板処理システム及びコンピュータ記憶媒体 2016年12月15日
特開 2016-212895 操作制限装置、操作制限方法及びコンピュータプログラム 2016年12月15日
特開 2016-213031 プラズマ処理装置の処理条件生成方法及びプラズマ処理装置 2016年12月15日
特開 2016-213033 基板処理装置 2016年12月15日
特開 2016-213252 基板液処理方法、基板液処理装置および記憶媒体 2016年12月15日
特開 2016-213289 成膜方法および成膜装置 2016年12月15日
特開 2016-213313 塗布処理装置および塗布処理方法 2016年12月15日
特開 2016-213339 被処理体を処理する方法 2016年12月15日
特開 2016-213427 エッチング方法及びエッチング装置 2016年12月15日
特開 2016-213438 基板処理方法、基板処理装置及び基板処理システム 2016年12月15日

623 件中 31-45 件を表示

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2016-539362 2016-211044 2016-211070 2016-211071 2016-211072 2016-212008 2016-212895 2016-213031 2016-213033 2016-213252 2016-213289 2016-213313 2016-213339 2016-213427 2016-213438

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