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東京エレクトロン株式会社

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  2016年 出願公開件数ランキング    第61位 616件 下降2015年:第56位 677件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第49位 561件 上昇2015年:第51位 433件)

(ランキング更新日:2020年7月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2016-213444 イメージ反転、誘導自己組織化、および選択的堆積を補助するための、サブ解像度開口部の使用 2016年12月15日
特開 2016-213475 シュリンク及び成長方法を使用する極端紫外線感度低下 2016年12月15日
特表 2016-538726 異なる波長の二つ以上の紫外光源を用いて基板を処理するシステム 2016年12月 8日
特開 2016-205408 流体継手用ガスケットおよび流体継手 2016年12月 8日
特開 2016-205409 遮断開放器 2016年12月 8日
特開 2016-205649 基板液処理装置、ヒータユニットの制御方法および記憶媒体 2016年12月 8日
特開 2016-207462 プラズマ処理装置 2016年12月 8日
特開 2016-207719 縦型熱処理装置 2016年12月 8日
特開 2016-207720 めっき処理方法、記憶媒体およびめっき処理システム 2016年12月 8日
特開 2016-207744 基板液処理装置、基板液処理方法および記憶媒体 2016年12月 8日
特開 2016-207767 基板処理システム 2016年12月 8日
特開 2016-207768 多孔質膜をエッチングする方法 2016年12月 8日
特開 2016-207769 スリップリング、支持機構及びプラズマ処理装置 2016年12月 8日
特開 2016-207770 被処理体を処理する方法 2016年12月 8日
特開 2016-207771 被エッチング層をエッチングする方法 2016年12月 8日

623 件中 46-60 件を表示

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2016-213444 2016-213475 2016-538726 2016-205408 2016-205409 2016-205649 2016-207462 2016-207719 2016-207720 2016-207744 2016-207767 2016-207768 2016-207769 2016-207770 2016-207771

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