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東京エレクトロン株式会社

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  2019年 出願公開件数ランキング    第58位 660件 上昇2018年:第67位 588件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第58位 415件 下降2018年:第50位 503件)

(ランキング更新日:2020年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
再表 2018-146981 成膜システム、成膜方法及びコンピュータ記憶媒体 2019年12月12日
再表 2018-147183 搬送装置、搬送方法及び記憶媒体 2019年12月12日
再表 2018-155312 基板収納処理装置、基板収納処理方法、及び記録媒体 2019年12月12日
特開 2019-210522 成膜方法及び成膜装置 2019年12月12日
特開 2019-210539 成膜方法および成膜装置 2019年12月12日
特開 2019-211409 流量測定方法および流量測定装置 2019年12月12日
特開 2019-212648 成膜装置及び成膜方法 2019年12月12日
特開 2019-212652 基板液処理方法、基板液処理装置及び記憶媒体 2019年12月12日
特開 2019-212670 基板処理方法および基板処理装置 2019年12月12日
特開 2019-212757 基板処理装置及び基板処理方法 2019年12月12日
特開 2019-212775 基板載置台及び基板検査装置 2019年12月12日
特開 2019-212776 成膜用組成物および成膜装置 2019年12月12日
特開 2019-212777 成膜用組成物および成膜装置 2019年12月12日
特開 2019-212781 基板処理装置および基板温度計測方法 2019年12月12日
特開 2019-212804 塗布膜形成装置及び塗布膜形成装置の調整方法 2019年12月12日

665 件中 46-60 件を表示

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  2. 2018-146981 2018-147183 2018-155312 2019-210522 2019-210539 2019-211409 2019-212648 2019-212652 2019-212670 2019-212757 2019-212775 2019-212776 2019-212777 2019-212781 2019-212804

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