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東京エレクトロン株式会社

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  2019年 出願公開件数ランキング    第58位 660件 上昇2018年:第67位 588件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第58位 415件 下降2018年:第50位 503件)

(ランキング更新日:2020年10月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2019-212805 原子層成長法を用いて基板上に薄膜を成膜する方法、または装置 2019年12月12日
特開 2019-212844 基板載置台及び基板処理装置 2019年12月12日
特開 2019-212852 プラズマ処理装置及び温度制御方法 2019年12月12日
特開 2019-212872 エッチング方法およびエッチング装置 2019年12月12日
特開 2019-212923 基板処理装置 2019年12月12日
特開 2019-207862 アンテナ、プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 2019年12月 5日
特開 2019-207909 半導体装置の製造方法および基板処理装置 2019年12月 5日
特開 2019-207911 膜をエッチングする方法及びプラズマ処理装置 2019年12月 5日
特開 2019-207912 上部電極アセンブリ、処理装置及び上部電極アセンブリの製造方法 2019年12月 5日
特開 2019-207913 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2019年12月 5日
特開 2019-207951 モデル生成装置、モデル生成プログラムおよびモデル生成方法 2019年12月 5日
特開 2019-207960 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 2019年12月 5日
特開 2019-207961 基板処理装置および基板処理方法 2019年12月 5日
特開 2019-207965 成膜装置及び成膜方法 2019年12月 5日
特開 2019-207994 成膜装置及び成膜方法 2019年12月 5日

665 件中 61-75 件を表示

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2019-212805 2019-212844 2019-212852 2019-212872 2019-212923 2019-207862 2019-207909 2019-207911 2019-207912 2019-207913 2019-207951 2019-207960 2019-207961 2019-207965 2019-207994

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