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東京エレクトロン株式会社

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  2019年 出願公開件数ランキング    第58位 660件 上昇2018年:第67位 588件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第58位 415件 下降2018年:第50位 503件)

(ランキング更新日:2020年7月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2019-208016 真空処理装置、シャワーヘッド、および真空処理装置の組み立て方法 2019年12月 5日
特開 2019-203155 成膜装置および成膜方法 2019年11月28日
特開 2019-203943 基板処理装置 2019年11月28日
特開 2019-204815 基板処理方法及び基板処理装置 2019年11月28日
特開 2019-204844 基板処理方法及び基板処理装置 2019年11月28日
特開 2019-204861 サセプタのドライクリーニング方法及び基板処理装置 2019年11月28日
特開 2019-204871 検査装置及び温度制御方法 2019年11月28日
特開 2019-204892 液処理装置、液処理方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2019年11月28日
特開 2019-204920 ラジカル失活部品及びこれを用いたプラズマ処理装置、並びにラジカル失活方法 2019年11月28日
特開 2019-204950 酸化物の原子層エッチングの方法 2019年11月28日
再表 2018-154993 基板処理システム 2019年11月21日
特開 2019-199629 溶射装置 2019年11月21日
特開 2019-199630 膜を形成する方法 2019年11月21日
特開 2019-199631 溶射装置 2019年11月21日
特開 2019-199639 成膜装置および成膜方法 2019年11月21日

665 件中 76-90 件を表示

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2019-208016 2019-203155 2019-203943 2019-204815 2019-204844 2019-204861 2019-204871 2019-204892 2019-204920 2019-204950 2018-154993 2019-199629 2019-199630 2019-199631 2019-199639

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