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東京エレクトロン株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第62位 621件 下降2010年:第57位 692件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第41位 739件 下降2010年:第39位 580件)

(ランキング更新日:2020年5月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 4845204 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法 2011年12月28日
特許 4845782 成膜原料 2011年12月28日
特許 4846190 プラズマ処理装置およびその制御方法 2011年12月28日
特許 4846943 ウエハ搬送具及びウエハ搬送システム 2011年12月28日
特許 4847015 エンドポイントを検出するための方法 2011年12月28日
特許 4845668 複合配管及び複合配管を備える塗布・現像処理装置 2011年12月28日
特許 4847909 プラズマ処理方法及び装置 2011年12月28日
特許 4849004 加熱装置、加熱方法及び塗布、現像装置並びに記憶媒体 2011年12月28日
特許 4847496 蒸着源ユニット、蒸着方法、蒸着源ユニットの制御装置および成膜装置 2011年12月28日
特許 4848376 高圧処理システム用超臨界流体均質化方法及びシステム 2011年12月28日 共同出願
特許 4844261 成膜方法及び成膜装置並びに記憶媒体 2011年12月28日
特許 4847332 誘電体膜を処理するための方法とシステム 2011年12月28日
特許 4845385 成膜装置 2011年12月28日
特許 4844167 冷却ブロック及びプラズマ処理装置 2011年12月28日
特許 4847046 熱処理装置 2011年12月28日

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4845204 4845782 4846190 4846943 4847015 4845668 4847909 4849004 4847496 4848376 4844261 4847332 4845385 4844167 4847046

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