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東京エレクトロン株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第58位 686件 上昇2013年:第60位 712件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第48位 694件 下降2013年:第45位 796件)

(ランキング更新日:2020年7月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5644719 成膜装置、基板処理装置及びプラズマ発生装置 2014年12月24日
特許 5646528 液処理装置 2014年12月24日
特許 5645718 熱処理装置 2014年12月24日
特許 5646190 洗浄方法及び処理装置 2014年12月24日
特許 5645796 液処理装置及び液処理方法 2014年12月24日
特許 5646354 液処理装置および液処理方法 2014年12月24日
特許 5646419 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 2014年12月24日
特許 5644915 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 2014年12月24日
特許 5644219 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 2014年12月24日
特許 5646758 半導体装置の製造方法、半導体装置及び配線形成用治具 2014年12月24日
特許 5644916 塗布、現像装置 2014年12月24日
特許 5644007 温度センサ及び熱処理装置 2014年12月24日 共同出願
特許 5645516 基板液処理装置及び処理液生成方法並びに処理液生成プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2014年12月24日
特許 5646956 液体流量制御装置、液体流量制御方法および記憶媒体 2014年12月24日
特許 5640943 露光装置の設定方法、基板撮像装置及び記憶媒体 2014年12月17日

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5644719 5646528 5645718 5646190 5645796 5646354 5646419 5644915 5644219 5646758 5644916 5644007 5645516 5646956 5640943

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