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東京エレクトロン株式会社

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  2017年 出願公開件数ランキング    第83位 585件 下降2016年:第61位 616件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第66位 431件 下降2016年:第49位 561件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6253748 成膜方法及び成膜装置 2017年12月27日
特許 6254054 塗布装置、接合システム、塗布方法、接合方法、プログラム、および情報記憶媒体 2017年12月27日
特許 6254093 基板処理装置及び基板処理装置の制御装置 2017年12月27日
特許 6254459 重合膜の耐薬品性改善方法、重合膜の成膜方法、成膜装置、および電子製品の製造方法 2017年12月27日
特許 6254516 基板処理装置及び基板処理方法 2017年12月27日
特許 6254929 測定処理装置、基板処理システム、測定用治具、測定処理方法、及びその記憶媒体 2017年12月27日
特許 6255187 シリコン酸化膜をエッチングする方法 2017年12月27日
特許 6248562 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2017年12月20日
特許 6248707 半導体製造装置、成膜処理方法及び記憶媒体 2017年12月20日
特許 6249659 プラズマ処理装置 2017年12月20日
特許 6249970 半導体装置の製造方法 2017年12月20日
特許 6244518 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2017年12月13日
特許 6245399 基板処理装置 2017年12月13日
特許 6246558 シリコン酸炭窒化物膜、シリコン酸炭化物膜、シリコン酸窒化物膜の成膜方法および成膜装置 2017年12月13日
特許 6246673 測定装置、基板処理システムおよび測定方法 2017年12月13日

440 件中 1-15 件を表示

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  2. 6253748 6254054 6254093 6254459 6254516 6254929 6255187 6248562 6248707 6249659 6249970 6244518 6245399 6246558 6246673

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