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東京エレクトロン株式会社

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  2016年 出願公開件数ランキング    第61位 616件 下降2015年:第56位 677件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第49位 561件 上昇2015年:第51位 433件)

(ランキング更新日:2020年5月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6047159 電場印加装置を用いて組織を構築するシステム及び方法 2016年12月21日
特許 6047411 温度測定機構及び温度測定方法 2016年12月21日
特許 6047452 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2016年12月21日
特許 6047506 静電チャック装置 2016年12月21日
特許 6048043 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び真空処理システム 2016年12月21日
特許 6048319 マグネトロンスパッタ装置 2016年12月21日
特許 6049394 基板処理システム及び基板の搬送制御方法 2016年12月21日
特許 6049398 ヒータ装置 2016年12月21日
特許 6049527 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2016年12月21日
特許 6049560 塗布装置およびスリットノズル 2016年12月21日
特許 6049825 有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 2016年12月21日
特許 6049871 エッチング及びアッシング中での低誘電率材料の側壁保護 2016年12月21日
特許 6050722 プラズマ処理装置及びフィルタユニット 2016年12月21日
特許 6050944 プラズマエッチング方法及びプラズマ処理装置 2016年12月21日
特許 6041709 金属層をエッチングする方法 2016年12月14日

572 件中 16-30 件を表示

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6047159 6047411 6047452 6047506 6048043 6048319 6049394 6049398 6049527 6049560 6049825 6049871 6050722 6050944 6041709

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