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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6138581 | プラズマ処理装置 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6138850 | 空検出機能付きライナ式液体保存・分配システム | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6139011 | 誘導自己組織化用途における中立層オーバーコートのトポグラフィの最小化 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6139298 | Ｃｕ配線の形成方法 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6139440 | 塗布方法、塗布装置および接合システム | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6139505 | 枚葉式基板処理のためのエッチングシステム及び方法 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6139986 | エッチング方法 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6140412 | ガス供給方法及びプラズマ処理装置 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6140457 | 接着方法、載置台及び基板処理装置 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6140575 | 半導体装置の製造方法 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6140576 | 基板処理方法、基板処理システムおよび記憶媒体 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6140624 | 基板保持方法、基板保持装置および接合装置 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6132497 | 離脱制御方法及びプラズマ処理装置 | 2017年 5月24日 | |
| 特許 6132791 | 半導体デバイスの製造方法及び製造装置 | 2017年 5月24日 | |
| 特許 6133164 | 群管理システム及びプログラム | 2017年 5月24日 |
440 件中 241-255 件を表示
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6138581 6138850 6139011 6139298 6139440 6139505 6139986 6140412 6140457 6140575 6140576 6140624 6132497 6132791 6133164
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