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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6094513 | 処理ガス発生装置、処理ガス発生方法、基板処理方法及び記憶媒体 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6095750 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6096438 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6096470 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6096547 | プラズマ処理装置及びシャワープレート | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6096588 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6096762 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6096955 | 成膜方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6097192 | エッチング方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6097229 | 接合装置、接合システムおよび接合方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6097317 | プラズマ処理方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6097376 | 自己組織化パターンを使用するメモリキャパシタ構造を形成する方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6097499 | プラズマ処理装置用部品及びプラズマ処理装置 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6090035 | 液処理装置 | 2017年 3月 8日 | |
| 特許 6090113 | 液処理装置 | 2017年 3月 8日 |
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6094513 6095750 6096438 6096470 6096547 6096588 6096762 6096955 6097192 6097229 6097317 6097376 6097499 6090035 6090113
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