ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2017年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
(2016年:第61位 616件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
(2016年:第49位 561件)
(ランキング更新日:2025年2月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6072644 | 紫外線照射装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2017年 2月 1日 | |
特許 6073192 | 基板洗浄装置、基板洗浄システムおよび基板洗浄方法 | 2017年 2月 1日 | |
特許 6074270 | グラフェンのパターニング方法、及びパターンニング用部材 | 2017年 2月 1日 | |
特許 6074325 | 基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体 | 2017年 2月 1日 | |
特許 6074338 | 液処理装置、濃度補正方法及び記憶媒体 | 2017年 2月 1日 | |
特許 6064875 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2017年 1月25日 | |
特許 6066847 | 基板処理方法及び制御装置 | 2017年 1月25日 | |
特許 6066861 | 基板洗浄装置、基板の裏面洗浄方法及び洗浄機構 | 2017年 1月25日 | |
特許 6066873 | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | 2017年 1月25日 | |
特許 6068029 | 基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体 | 2017年 1月25日 | |
特許 6068377 | 成膜処理装置、成膜処理方法及び記録媒体 | 2017年 1月25日 | |
特許 6068727 | パルス状気体プラズマドーピング方法及び装置 | 2017年 1月25日 | |
特許 6068849 | 上部電極、及びプラズマ処理装置 | 2017年 1月25日 | |
特許 6062321 | 有機半導体膜、その製造方法及びトランジスタ構造 | 2017年 1月18日 | |
特許 6062461 | プラズマ処理装置 | 2017年 1月18日 |
440 件中 406-420 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6072644 6073192 6074270 6074325 6074338 6064875 6066847 6066861 6066873 6068029 6068377 6068727 6068849 6062321 6062461
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月27日(木) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
3月4日(火) - 東京 港区
新潟県新潟市東区新松崎3-22-15 ラフィネドミールⅡ-102 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟
大阪市北区豊崎3-20-9 三栄ビル7階 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
659-0068 兵庫県芦屋市業平町4-1 イム・エメロードビル503 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング