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東京エレクトロン株式会社

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　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第67位　588件（2017年：第83位　585件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第50位　503件（2017年：第66位　431件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2018-160487	窒化ガリウム膜の成膜方法および成膜装置	2018年10月11日
特開 2018-160565	ガスクラスター処理装置およびガスクラスター処理方法	2018年10月11日
特開 2018-160584	基板処理装置及び基板処理方法	2018年10月11日
特開 2018-160585	加熱方法、成膜方法、半導体装置の製造方法、および成膜装置	2018年10月11日
特開 2018-160656	成膜方法、ボロン膜、及び成膜装置	2018年10月11日
特開 2018-160666	基板処理装置	2018年10月11日
特開 2018-160701	基板洗浄方法	2018年10月11日
特開 2018-155527	検査装置の診断方法および検査システム	2018年10月 4日
特開 2018-156962	塗布処理装置及びカップ	2018年10月 4日
特開 2018-156982	半導体装置の製造方法及び真空処理装置	2018年10月 4日
特開 2018-156994	基板処理装置の制御装置及び基板処理表示方法	2018年10月 4日
特開 2018-157028	成膜装置、成膜方法及び記憶媒体	2018年10月 4日
特開 2018-157131	ステージクリーニング方法およびステージクリーニング部材、ステージクリーニング部材の製造方法、ならびに検査システム	2018年10月 4日
特開 2018-157148	ガス供給部材及びガス処理装置	2018年10月 4日
特開 2018-157188	被加工物を処理する方法	2018年10月 4日

591 件中 151-165 件を表示

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2018-160487 2018-160565 2018-160584 2018-160585 2018-160656 2018-160666 2018-160701 2018-155527 2018-156962 2018-156982 2018-156994 2018-157028 2018-157131 2018-157148 2018-157188

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