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東京エレクトロン株式会社

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  2018年 出願公開件数ランキング    第67位 588件 上昇2017年:第83位 585件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第50位 503件 上昇2017年:第66位 431件)

(ランキング更新日:2024年11月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2018-152520 プラズマ処理装置及びシーズニング方法 2018年 9月27日
特開 2018-152622 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 2018年 9月27日
再表 2017-98823 基板洗浄装置 2018年 9月20日
特表 2018-527741 インラインディスペンスキャパシタシステム 2018年 9月20日
特開 2018-143975 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2018年 9月20日
特開 2018-143976 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2018年 9月20日
特開 2018-143977 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2018年 9月20日
特開 2018-145458 ガス供給装置、ガス供給方法及び成膜方法 2018年 9月20日
特開 2018-145459 ガス供給装置、ガス供給方法及び成膜方法 2018年 9月20日
特開 2018-145460 ガス導入機構及び熱処理装置 2018年 9月20日
特開 2018-147292 ワーク加工装置、ワーク加工方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2018年 9月20日
特開 2018-147652 プラズマ処理装置 2018年 9月20日
特開 2018-147908 基板処理方法および基板処理装置 2018年 9月20日
特開 2018-147923 基板処理装置および基板処理方法 2018年 9月20日
特開 2018-147939 自転検出用冶具、基板処理装置及び基板処理装置の運転方法 2018年 9月20日

591 件中 181-195 件を表示

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2018-152520 2018-152622 2017-98823 2018-527741 2018-143975 2018-143976 2018-143977 2018-145458 2018-145459 2018-145460 2018-147292 2018-147652 2018-147908 2018-147923 2018-147939

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