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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-176031 | プラズマ処理装置、及び被処理体の搬送方法 | 2019年10月10日 | |
| 特開 2019-176032 | プラズマ処理装置 | 2019年10月10日 | |
| 特開 2019-176051 | エッチング方法 | 2019年10月10日 | |
| 特開 2019-176054 | 基板処理システム及びガスの流量を求める方法 | 2019年10月10日 | |
| 特開 2019-176075 | 冷却システム | 2019年10月10日 | |
| 特開 2019-176138 | プラズマ処理装置 | 2019年10月10日 | |
| 特開 2019-167607 | タングステン膜の成膜方法及び制御装置 | 2019年10月 3日 | |
| 特開 2019-167634 | タングステン膜の成膜方法および成膜装置 | 2019年10月 3日 | |
| 特開 2019-168475 | 化学増幅型レジスト材料及びレジストパターン形成方法 | 2019年10月 3日 | |
| 特開 2019-169537 | 基板処理装置 | 2019年10月 3日 | |
| 特開 2019-169627 | エッチング方法 | 2019年10月 3日 | |
| 特開 2019-169635 | クリーニング方法及び処理装置 | 2019年10月 3日 | |
| 特開 2019-169636 | 基板加熱装置及びこれを用いた基板処理装置 | 2019年10月 3日 | |
| 特開 2019-169689 | 成膜装置及び成膜方法 | 2019年10月 3日 | |
| 特開 2019-169724 | エッチング方法及びエッチング装置 | 2019年10月 3日 |
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2019-176031 2019-176032 2019-176051 2019-176054 2019-176075 2019-176138 2019-167607 2019-167634 2019-168475 2019-169537 2019-169627 2019-169635 2019-169636 2019-169689 2019-169724
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