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東京エレクトロン株式会社

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  2019年 出願公開件数ランキング    第58位 660件 上昇2018年:第67位 588件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第58位 415件 下降2018年:第50位 503件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2019-149578 基板処理装置および基板処理方法 2019年 9月 5日
特表 2019-523865 シンギュラー・ビームを用いたダーク・フィールド・ウェファ・ナノ欠陥検査システム 2019年 8月29日
特開 2019-143184 ガス分配装置および処理装置 2019年 8月29日
特開 2019-143204 タングステン膜の成膜方法、成膜システム及び記憶媒体 2019年 8月29日
特開 2019-145540 クリーニング方法及びプラズマ処理装置 2019年 8月29日
特開 2019-145561 液処理装置 2019年 8月29日
特開 2019-145566 エッチングする方法及びプラズマ処理装置 2019年 8月29日
特開 2019-145608 処理方法 2019年 8月29日
特開 2019-145687 洗浄具、基板洗浄装置及び基板洗浄方法 2019年 8月29日
特開 2019-145717 膜形成方法及び基板処理装置 2019年 8月29日
特開 2019-145729 プラズマ処理方法 2019年 8月29日
特開 2019-145735 シリコン膜またはゲルマニウム膜またはシリコンゲルマニウム膜を成膜する方法および装置 2019年 8月29日
特開 2019-145742 コンタクト精度保証方法、コンタクト精度保証機構、および検査装置 2019年 8月29日
特開 2019-145770 プラズマ処理装置 2019年 8月29日
特開 2019-145780 プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 2019年 8月29日

665 件中 256-270 件を表示

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2019-149578 2019-523865 2019-143184 2019-143204 2019-145540 2019-145561 2019-145566 2019-145608 2019-145687 2019-145717 2019-145729 2019-145735 2019-145742 2019-145770 2019-145780

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