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東京エレクトロン株式会社

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  2019年 出願公開件数ランキング    第58位 660件 上昇2018年:第67位 588件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第58位 415件 下降2018年:第50位 503件)

(ランキング更新日:2020年10月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2019-201201 基板処理方法、記憶媒体及び基板処理装置 2019年11月21日
特開 2019-201234 基板洗浄装置 2019年11月21日
特開 2019-201235 基板洗浄方法 2019年11月21日
特開 2019-195894 接続線支持装置 2019年11月14日
特開 2019-197830 載置台及びプラズマ処理装置 2019年11月14日
特開 2019-197849 プラズマ処理装置 2019年11月14日
特開 2019-197856 エッチング方法およびエッチング装置 2019年11月14日
特開 2019-197872 半導体膜の形成方法及び成膜装置 2019年11月14日
特開 2019-197893 誘導加熱を使用した急速ウェハ乾燥 2019年11月14日
特開 2019-197903 処理装置 2019年11月14日
特開 2019-198010 フィルタ装置及びプラズマ処理装置 2019年11月14日
再表 2018-128088 基板洗浄方法、基板洗浄システムおよび記憶媒体 2019年11月 7日
再表 2018-142840 基板処理方法、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム 2019年11月 7日
再表 2018-142955 電解処理装置および電解処理方法 2019年11月 7日
特開 2019-194132 III族窒化物微結晶凝集体の製造方法、窒化ガリウム微結晶凝集体の製造方法、III族窒化物微結晶凝集体およびスパッタリングターゲット 2019年11月 7日

665 件中 106-120 件を表示

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2019-201201 2019-201234 2019-201235 2019-195894 2019-197830 2019-197849 2019-197856 2019-197872 2019-197893 2019-197903 2019-198010 2018-128088 2018-142840 2018-142955 2019-194132

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