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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6504996 | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6505001 | ウエハボート支持台及びこれを用いた熱処理装置 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6505253 | 基板洗浄装置 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6506984 | 基板検出装置、基板検出方法及び基板処理システム | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6501493 | プラズマ処理装置 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6501560 | シリコン窒化物膜の成膜方法および成膜装置 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6501576 | シリコン膜の成膜方法および成膜装置 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6501601 | 基板処理装置、基板処理方法及び基板処理プログラム | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6501685 | カップ洗浄用治具を用いてカップを洗浄する基板液処理装置並びにカップ洗浄方法 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6501692 | 注意喚起情報提供システム | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6501700 | 電解処理装置及び電解処理方法 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6502160 | 被処理体を処理する方法 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6502198 | 基板処理方法および記憶媒体 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6502206 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6502232 | フォーカスリング及びセンサチップ | 2019年 4月17日 |
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6504996 6505001 6505253 6506984 6501493 6501560 6501576 6501601 6501685 6501692 6501700 6502160 6502198 6502206 6502232
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