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信越化学工業株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第106位 436件 上昇2011年:第107位 416件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第108位 382件 下降2011年:第67位 474件)

(ランキング更新日:2020年7月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-254972 チオエステル基含有有機ケイ素化合物の製造方法、チオエステル基含有有機ケイ素化合物、ゴム用配合剤、ゴム組成物及びタイヤ 2012年12月27日
特開 2012-255061 熱伝導性接着剤組成物、接着用シートおよび熱伝導性ダイシング・ダイアタッチフィルム 2012年12月27日
特開 2012-254962 嵩高い置換基を有するカルボン酸シリルエステル化合物及びその製造方法 2012年12月27日
特開 2012-256592 リチウムイオン電池用正極材粒子の製造方法 2012年12月27日
特開 2012-256713 太陽電池の製造方法 2012年12月27日
特開 2012-254894 シリコンの精製方法 2012年12月27日
特開 2012-252080 パターン形成方法 2012年12月20日
特開 2012-250887 コアから離隔した位置に低屈折率部を有する光ファイバ用母材の製造方法 2012年12月20日
特開 2012-252052 閃光照射装置およびフォトマスクブランクの製造方法 2012年12月20日
特開 2012-250874 イリジウムルツボ及びそれを用いたタンタル酸リチウム単結晶の製造方法 2012年12月20日
特開 2012-251087 接着性オルガノポリシロキサン組成物 2012年12月20日
特開 2012-250237 光触媒粒子の分散液及びその製法 2012年12月20日
特開 2012-251116 シリコーンゲル組成物及び該組成物の硬化物で封止された電子回路 2012年12月20日
特開 2012-246359 剥離紙又は剥離フィルム用シリコーン組成物 2012年12月13日
特開 2012-246426 高分子化合物、化学増幅レジスト材料、該化学増幅レジスト材料を用いたパターン形成方法。 2012年12月13日

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