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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第141位 330件
（
2018年：第172位 256件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第156位 176件
（2018年：第188位 158件）
（ランキング更新日：2025年12月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2019-528370 | いくつかのマスクを取り扱うための方法、基板を処理するための方法、及び基板をコーティングするための装置 | 2019年10月10日 | |
| 特表 2019-528373 | 動的なマグネトロン制御による物理的気相堆積（ＰＶＤ）のプラズマエネルギーの制御 | 2019年10月10日 | |
| 特表 2019-528553 | モジュラーマイクロ波プラズマ源 | 2019年10月10日 | |
| 特表 2019-528575 | 露出可能なセンシング層を有するウエハ処理機器 | 2019年10月10日 | |
| 特表 2019-527923 | 磁気浮上システム、磁気浮上システム用のキャリア、及び、磁気浮上システムを動作させる方法 | 2019年10月 3日 | |
| 特表 2019-527938 | 導電性材料のインプリントリソグラフィの方法、インプリントリソグラフィのためのスタンプ、及びインプリントリソグラフィのための装置 | 2019年10月 3日 | |
| 特開 2019-166633 | 付加製造プロセスを使用する、複合材料特性を有するＣＭＰパッド構造 | 2019年10月 3日 | |
| 特表 2019-527301 | スパッタ堆積源、スパッタ堆積装置及びスパッタ堆積源を操作する方法 | 2019年 9月26日 | |
| 特表 2019-527382 | 合金吸収体を有する極紫外線マスクブランク、及びその製造方法 | 2019年 9月26日 | |
| 特表 2019-527471 | マイクロデバイスの移動のためのシステム及び方法 | 2019年 9月26日 | |
| 特開 2019-164362 | 平坦化された極端紫外線リソグラフィブランク及びそのための製造及びリソグラフィシステム | 2019年 9月26日 | |
| 特開 2019-165232 | 広範囲の動作温度を有するＰＥＣＶＤセラミックヒータ | 2019年 9月26日 | |
| 特表 2019-526700 | 真空チャンバ内の基板を処理するための装置及びシステム、並びにマスクキャリアに対して基板キャリアを位置合わせする方法 | 2019年 9月19日 | |
| 特表 2019-526701 | 真空チャンバ内で基板を処理するための装置及びシステム、並びに真空チャンバ内でキャリアを搬送する方法 | 2019年 9月19日 | |
| 特表 2019-526751 | 連続トウ処理用のゲートバルブ | 2019年 9月19日 |
330 件中 91-105 件を表示
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2019-528370 2019-528373 2019-528553 2019-528575 2019-527923 2019-527938 2019-166633 2019-527301 2019-527382 2019-527471 2019-164362 2019-165232 2019-526700 2019-526701 2019-526751
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