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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第136位　210件（2019年：第156位　176件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-74452	低Ｋ及びその他の誘電体膜をエッチングするための処理チャンバ	2020年 5月14日
特表 2020-512547	基板支持体用の非接触温度較正ツール及びその使用方法	2020年 4月23日
特表 2020-512656	ディスプレイ製造用基板上での自動限界寸法測定方法、ディスプレイ製造用大面積基板の検査方法、ディスプレイ製造用大面積基板の検査装置及びその操作方法	2020年 4月23日
特表 2020-512681	処理構成要素のＲＦＩＤ部品認証および追跡	2020年 4月23日
特開 2020-63511	蒸発した材料を堆積させるための蒸発源、及び蒸発した材料を堆積させるための方法	2020年 4月23日
特開 2020-64307	吸収体を有する、平坦化された極紫外線リソグラフィブランク及びその製造システム	2020年 4月23日
特開 2020-65058	希土類酸化物のイオンアシスト蒸着トップコート	2020年 4月23日
特開 2020-65061	改良されたフロー均一性／ガスコンダクタンスを備えた可変処理容積に対処するための対称チャンバ本体設計アーキテクチャ	2020年 4月23日
特開 2020-65067	熱質量が小さい加圧チャンバ	2020年 4月23日
特表 2020-511332	回転ポリゴンを有するエネルギー供給システムを備えた付加製造	2020年 4月16日
特表 2020-511388	ホットプレスにより形成された焼結セラミック保護層	2020年 4月16日
特表 2020-511785	ＣＭＰ位置特定研磨（ＬＳＰ）用に設計された螺旋及び同心運動	2020年 4月16日
特表 2020-511786	振幅変調を介してイオンエネルギーブーストを可能にするプラズマ処理チャンバのためのイオンエネルギー分布操作のための方法及び装置	2020年 4月16日
特開 2020-61555	遠隔プラズマ源を使用する低温での選択的な酸化のための装置及び方法	2020年 4月16日
特開 2020-61563	高対称四重ガス注入によるプラズマリアクタ	2020年 4月16日

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2020-74452 2020-512547 2020-512656 2020-512681 2020-63511 2020-64307 2020-65058 2020-65061 2020-65067 2020-511332 2020-511388 2020-511785 2020-511786 2020-61555 2020-61563

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