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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第138位　311件（2019年：第141位　330件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第136位　210件（2019年：第156位　176件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-507675	堆積、注入、及び処理のための、複数の反応ガス、高バイアス電力、並びに高電力インパルス源によるＰＶＤチャンバの拡張	2020年 3月12日
特表 2020-507678	プラズマリアクタ内での調整可能なワークピースバイアス用システム	2020年 3月12日
特表 2020-507922	ハードマスク応用向けのホウ素がドープされた炭化タングステン	2020年 3月12日
特表 2020-507923	パターニング応用のための選択的堆積スキーム	2020年 3月12日
特表 2020-507929	遠隔プラズマ流動性ＣＶＤチャンバの方法および装置	2020年 3月12日
特表 2020-507939	基板処理システムの基板支持体に関する基板位置較正	2020年 3月12日
特開 2020-38678	プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法	2020年 3月12日
特開 2020-38971	プラズマダイシング中のダイシングテープ熱管理のための冷却ペデスタル	2020年 3月12日
特開 2020-38972	ロードロックチャンバ、ロードロックチャンバを有する真空処理システム及びロードロックチャンバを排気する方法	2020年 3月12日
特開 2020-38973	半導体用途のための結晶化処理	2020年 3月12日
特表 2020-507187	プラズマ均一性を径方向制御及び方位角制御するためのシステム及び方法	2020年 3月 5日
特表 2020-507219	半導体プロセスの廃水からの亜酸化窒素のプラズマ軽減	2020年 3月 5日
特開 2020-36015	ガス分配及び個別のポンピングを伴うバッチ硬化チャンバ	2020年 3月 5日
特表 2020-506287	基板をコーティングするためのスパッタ堆積装置、及びスパッタ堆積処理を実行する方法	2020年 2月27日
特表 2020-506289	反応性ガス及びバイアス電力によって、ＰＶＤカーボンの膜品質を改善するための方法	2020年 2月27日

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2020-507675 2020-507678 2020-507922 2020-507923 2020-507929 2020-507939 2020-38678 2020-38971 2020-38972 2020-38973 2020-507187 2020-507219 2020-36015 2020-506287 2020-506289

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