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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第138位 311件 (2019年:第141位 330件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第136位 210件 (2019年:第156位 176件)
(ランキング更新日:2024年11月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2020-506300 | 誘電体スパッタリングの欠陥を低減させるペースティング法 | 2020年 2月27日 | |
特表 2020-506433 | パターン配置補正方法 | 2020年 2月27日 | |
特表 2020-506508 | 高周波隔離ヒータを有する静電チャック | 2020年 2月27日 | |
特表 2020-506533 | 核形成のない間隙充填ALDプロセス | 2020年 2月27日 | |
特表 2020-506540 | ルテニウムドーピングにより強化される耐コバルト凝集性及び間隙充填作用 | 2020年 2月27日 | |
特表 2020-506550 | ロードポートドアオープナーのためのシステム、装置、及び方法 | 2020年 2月27日 | |
特開 2020-30036 | 多段冷却を有する装置 | 2020年 2月27日 | |
特開 2020-31209 | プラズマ処理チャンバの基板支持体用エッジリングアセンブリ | 2020年 2月27日 | |
特表 2020-505241 | CMP用途向けの薄いプラスチック研磨物品 | 2020年 2月20日 | |
特表 2020-505513 | 基板のためのホルダ | 2020年 2月20日 | |
特表 2020-505759 | インシトゥ監視からの測定値の、抵抗率に基づく調整 | 2020年 2月20日 | |
特表 2020-505780 | 自己制御原子熱エッチングシステム及び方法 | 2020年 2月20日 | |
特表 2020-505794 | 真空チャンバ内で撮像するための装置、基板の真空処理のためのシステム、及び真空チャンバ内で少なくとも1つの物体を撮像するための方法 | 2020年 2月20日 | |
特開 2020-23750 | 堆積装置を操作する方法、蒸発した源材料を基板に堆積する方法、及び堆積装置 | 2020年 2月13日 | |
特表 2020-504229 | 非接触方式での位置合わせのための方法及び装置 | 2020年 2月 6日 |
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2020-506300 2020-506433 2020-506508 2020-506533 2020-506540 2020-506550 2020-30036 2020-31209 2020-505241 2020-505513 2020-505759 2020-505780 2020-505794 2020-23750 2020-504229
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月30日(土) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
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12月5日(木) - 東京 港区
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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