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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第138位　311件（2019年：第141位　330件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第136位　210件（2019年：第156位　176件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-504230	フレキシブル基板を被覆するための堆積装置、フレキシブル基板を被覆する方法、及び被覆を有するフレキシブル基板	2020年 2月 6日
特表 2020-504244	物理的気相堆積処理システムのターゲットの冷却	2020年 2月 6日
特表 2020-504338	非ブレーズドＤＭＤを伴う解像度強化型のデジタルリソグラフィ	2020年 2月 6日
特表 2020-504457	低温窒化ケイ素膜のための方法及び装置	2020年 2月 6日
特開 2020-21939	方位角方向に調整可能なマルチゾーン静電チャック	2020年 2月 6日
特表 2020-503436	スパッタ堆積源、スパッタ堆積装置、及び基板上に層を堆積させる方法	2020年 1月30日
特表 2020-503615	熱ベースの質量流量コントローラ（ＭＦＣ）の流れ検出再現性を高めるための方法及び装置	2020年 1月30日
特表 2020-503663	基板を支持するための基板キャリア、マスクチャッキング装置、真空処理システム、及び基板キャリアを動作させる方法	2020年 1月30日
特表 2020-503684	基板における均一の液体流分布のためのスプレーバー設計	2020年 1月30日
特開 2020-17738	改善されたフローコンダクタンス及び均一性のため軸対称性を可能にするインラインＤＰＳチャンバハードウェア設計	2020年 1月30日
特表 2020-502359	堆積装置、フレキシブル基板を被覆する方法、及び被覆を有するフレキシブル基板	2020年 1月23日
特表 2020-502778	堆積システム	2020年 1月23日
特表 2020-502803	チャンバドリフティングなしで高温処理を可能にする方法	2020年 1月23日
特表 2020-502808	露光後処理装置	2020年 1月23日
特表 2020-502809	下位構造材料に直接ＲＦ曝露しない共形の気密性誘電体封入のためのＳＩＢＮ膜	2020年 1月23日

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2020-504230 2020-504244 2020-504338 2020-504457 2020-21939 2020-503436 2020-503615 2020-503663 2020-503684 2020-17738 2020-502359 2020-502778 2020-502803 2020-502808 2020-502809

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