特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＪＳＲ株式会社

※ ログインすれば出願人(ＪＳＲ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2015年出願公開件数ランキング　　　第163位　288件（2014年：第170位　269件）

　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第98位　285件（2014年：第113位　371件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

ＪＳＲ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
再表 2013-69544	パターン形成用自己組織化組成物及びパターン形成方法	2015年 4月 2日
再表 2013-69750	レジスト上層膜形成用組成物、レジストパターン形成方法、化合物、化合物の製造方法及び重合体	2015年 4月 2日
再表 2013-73015	成形装置、及び熱可塑性成形品の製造方法	2015年 4月 2日
再表 2013-73505	パターン形成用自己組織化組成物及びパターン形成方法	2015年 4月 2日
特開 2015-62057	感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物	2015年 4月 2日
特開 2015-62065	感放射線性樹脂組成物、重合体及び化合物	2015年 4月 2日
特開 2015-62072	感放射線性樹脂組成物	2015年 4月 2日
特開 2015-62166	有機ＥＬ素子用水分捕獲体形成組成物、水分捕獲体および有機ＥＬ素子	2015年 4月 2日
特開 2015-62168	電極材料の製造方法、電極及び蓄電デバイス	2015年 4月 2日
再表 2013-54702	レジスト下層膜形成用組成物、その製造方法、パターン形成方法及びレジスト下層膜	2015年 3月30日
再表 2013-54864	光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール	2015年 3月30日
特開 2015-60034	感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び感放射線性酸発生剤	2015年 3月30日
再表 2013-38938	近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置	2015年 3月26日
再表 2013-47072	液浸上層膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法	2015年 3月26日
再表 2013-47117	フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び重合体	2015年 3月26日

290 件中 211-225 件を表示

... 15

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-69544 2013-69750 2013-73015 2013-73505 2015-62057 2015-62065 2015-62072 2015-62166 2015-62168 2013-54702 2013-54864 2015-60034 2013-38938 2013-47072 2013-47117

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＪＳＲ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数