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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第497位 67件
(
2014年:第514位 67件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第491位 50件
(
2014年:第831位 35件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2015-79943 | 前塗布(プレアプライド)アンダーフィル | 2015年 4月23日 | |
| 特開 2015-71590 | 光酸発生剤、フォトレジスト及びコーティングされた基板、並びに、電子デバイスを形成するための方法 | 2015年 4月16日 | |
| 特開 2015-63523 | ハードマスク | 2015年 4月 9日 | |
| 特開 2015-63755 | アルカリに安定なピリミジン誘導体含有触媒による誘電体の無電解メタライゼーション | 2015年 4月 9日 | |
| 特開 2015-64572 | 自己組織化した構造、その製造の方法およびそれを含む物品 | 2015年 4月 9日 | |
| 特開 2015-65432 | 自己組織化した構造、その製造の方法およびそれを含む物品 | 2015年 4月 9日 | |
| 特開 2015-61822 | 多結晶性モノリシックアルミン酸マグネシウムスピネル | 2015年 4月 2日 | |
| 特開 2015-53480 | ドーパント含有ポリマーフィルムを介する、基板のドーピング | 2015年 3月19日 | |
| 特開 2015-45094 | 鉛を含まないスズ合金電気めっき組成物および方法 | 2015年 3月12日 | |
| 特開 2015-45871 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2015年 3月12日 | |
| 特開 2015-42402 | 配向制御層ポリマー、その製造方法およびそれを含む物品 | 2015年 3月 5日 | |
| 特開 2015-43110 | ブロックコポリマーを含む組成物およびフォトリソグラフィー方法 | 2015年 3月 5日 | |
| 特開 2015-38604 | フォトレジスト組成物、コーティング基板、および電子デバイスを製造する方法 | 2015年 2月26日 | |
| 特開 2015-28216 | 基体上に膜を堆積する方法および気化前駆体化合物を送達する装置 | 2015年 2月12日 | |
| 特開 2015-20167 | イミノ二酢酸および誘導体を含む無電解金属化のための触媒 | 2015年 2月 2日 |
77 件中 61-75 件を表示
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2015-79943 2015-71590 2015-63523 2015-63755 2015-64572 2015-65432 2015-61822 2015-53480 2015-45094 2015-45871 2015-42402 2015-43110 2015-38604 2015-28216 2015-20167
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