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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第12004位 1件
(
2010年:第3298位 6件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2601位 7件
(
2010年:第2941位 5件)
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4805627 | 表面を検査するための照射パラメータの決定 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4805674 | パターン化及び非パターン化物体を光学的に検査する方法及びシステム | 2011年11月 2日 | 共同出願 |
| 特許 4769725 | 測定システム及び方法 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4742048 | 高度な粗さ度量衡 | 2011年 8月10日 | |
| 特許 4742041 | 液体金属イオン源および液体金属イオン源を制御する方法 | 2011年 8月10日 | |
| 特許 4704040 | 光学的検査のための照明システム | 2011年 6月15日 | 共同出願 |
| 特許 4662053 | 複数の検出器を有する走査電子顕微鏡および複数の検出器ベースのイメージング方法 | 2011年 3月30日 |
7 件中 1-7 件を表示
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4805627 4805674 4769725 4742048 4742041 4704040 4662053
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11月15日(土) - 神奈川 横浜市
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11月19日(水) -
11月19日(水) -
11月19日(水) -
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11月20日(木) - 東京 千代田区
11月20日(木) -
11月21日(金) - 東京 千代田区
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