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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第183位 239件
（
2010年：第192位 261件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第141位 260件
（
2010年：第110位 276件）
（ランキング更新日：2021年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-258948 | 変位デバイス、リソグラフィ装置および位置決め方法 | 2011年12月22日 | |
| 特表 2011-530819 | 放射源、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-258946 | 流体供給システム、リソグラフィ装置、流体流量の変更方法及びデバイス製造方法 | 2011年12月22日 | |
| 特表 2011-530823 | 放射源、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-258950 | 水素ラジカルジェネレータ | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-257394 | 位置センサ及びリソグラフィ装置 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-258990 | プラズマ放射源における高速イオンの削減 | 2011年12月22日 | |
| 特表 2011-530818 | 放射源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2011年12月22日 | |
| 特表 2011-530804 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-254089 | リソグラフィ装置 | 2011年12月15日 | |
| 特表 2011-530184 | リソグラフィ装置用の光学素子、かかる光学素子を含むリソグラフィ装置、およびかかる光学素子を製造する方法 | 2011年12月15日 | |
| 特開 2011-254092 | リソグラフィ投影装置およびリソグラフィ投影方法 | 2011年12月15日 | |
| 特表 2011-529629 | リソグラフィ装置におけるコレクタデバイスのアライメント | 2011年12月 8日 | |
| 特開 2011-249854 | リソグラフィック装置及びデバイス製造方法 | 2011年12月 8日 | |
| 特開 2011-249798 | 照明システム及びリソグラフィ装置 | 2011年12月 8日 |
239 件中 1-15 件を表示
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2011-258948 2011-530819 2011-258946 2011-530823 2011-258950 2011-257394 2011-258990 2011-530818 2011-530804 2011-254089 2011-530184 2011-254092 2011-529629 2011-249854 2011-249798
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