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エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

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  2011年 出願公開件数ランキング    第183位 239件 上昇2010年:第192位 261件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第141位 260件 下降2010年:第110位 276件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-258948 変位デバイス、リソグラフィ装置および位置決め方法 2011年12月22日
特表 2011-530819 放射源、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 2011年12月22日
特開 2011-258946 流体供給システム、リソグラフィ装置、流体流量の変更方法及びデバイス製造方法 2011年12月22日
特表 2011-530823 放射源、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 2011年12月22日
特開 2011-258950 水素ラジカルジェネレータ 2011年12月22日
特開 2011-257394 位置センサ及びリソグラフィ装置 2011年12月22日
特開 2011-258990 プラズマ放射源における高速イオンの削減 2011年12月22日
特表 2011-530818 放射源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 2011年12月22日
特表 2011-530804 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 2011年12月22日
特開 2011-254089 リソグラフィ装置 2011年12月15日
特表 2011-530184 リソグラフィ装置用の光学素子、かかる光学素子を含むリソグラフィ装置、およびかかる光学素子を製造する方法 2011年12月15日
特開 2011-254092 リソグラフィ投影装置およびリソグラフィ投影方法 2011年12月15日
特表 2011-529629 リソグラフィ装置におけるコレクタデバイスのアライメント 2011年12月 8日
特開 2011-249854 リソグラフィック装置及びデバイス製造方法 2011年12月 8日
特開 2011-249798 照明システム及びリソグラフィ装置 2011年12月 8日

239 件中 1-15 件を表示

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2011-258948 2011-530819 2011-258946 2011-530823 2011-258950 2011-257394 2011-258990 2011-530818 2011-530804 2011-254089 2011-530184 2011-254092 2011-529629 2011-249854 2011-249798

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