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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第220位 207件
（
2011年：第183位 239件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第114位 356件
（
2011年：第141位 260件）
（ランキング更新日：2021年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-256873 | 温度検知プローブ、バールプレート、リソグラフィ装置及び方法 | 2012年12月27日 | |
| 特開 2012-256887 | 放射源およびリソグラフィ装置 | 2012年12月27日 | |
| 特開 2012-256625 | 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2012年12月27日 | |
| 特開 2012-253341 | ダイサイズの最適化方法、パターン設計方法、デバイス製造方法、及びコンピュータプログラム製品 | 2012年12月20日 | |
| 特開 2012-253336 | 計算プロセス制御 | 2012年12月20日 | |
| 特開 2012-253389 | リソグラフィ装置及び装置の動作方法 | 2012年12月20日 | |
| 特開 2012-248834 | リソグラフィ装置及び部品 | 2012年12月13日 | |
| 特開 2012-248838 | マルチステージシステム、マルチステージシステムのための制御方法、およびリソグラフィ装置 | 2012年12月13日 | |
| 特開 2012-248832 | 基板テーブルを備えるリソグラフィ装置 | 2012年12月13日 | |
| 特表 2012-531759 | 反射要素のアレイの回転マウンティングおよびそれを組み入れたリソグラフィ装置 | 2012年12月10日 | |
| 特表 2012-531730 | スペクトル純度フィルタ、リソグラフィ装置、及びスペクトル純度フィルタを製造する方法 | 2012年12月10日 | |
| 特開 2012-238868 | リソグラフィ装置、乾燥デバイス、メトロロジー装置及びデバイス製造方法 | 2012年12月 6日 | |
| 特開 2012-238877 | 露光装置、露光装置のコーティング、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれにより製造されたデバイス | 2012年12月 6日 | |
| 特表 2012-531054 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2012年12月 6日 | |
| 特表 2012-530929 | オブジェクト検査システムおよび方法 | 2012年12月 6日 | 共同出願 |
207 件中 1-15 件を表示
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2012-256873 2012-256887 2012-256625 2012-253341 2012-253336 2012-253389 2012-248834 2012-248838 2012-248832 2012-531759 2012-531730 2012-238868 2012-238877 2012-531054 2012-530929
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