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株式会社日立ハイテクノロジーズ

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  2011年 出願公開件数ランキング    第52位 689件 上昇2010年:第70位 624件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第98位 350件 下降2010年:第95位 307件)

(ランキング更新日:2021年3月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-232132 自動分析装置 2011年11月17日
特開 2011-232473 搭載装置,加熱圧着装置および表示パネルモジュール組立装置 2011年11月17日
特開 2011-233532 荷電粒子線装置 2011年11月17日
特開 2011-233708 FPDモジュールの組立装置 2011年11月17日
再表 2009-151058 磁性粒子を用いる分析装置 2011年11月17日
特開 2011-232354 校正用標準部材 2011年11月17日
特開 2011-232696 FPDの実装組立装置および実装組立方法 2011年11月17日
特開 2011-233721 真空処理装置及び真空処理方法 2011年11月17日
特開 2011-234145 RDMA受信装置 2011年11月17日
特開 2011-232359 パターン測定方法、及びパターン測定装置 2011年11月17日
特開 2011-232212 自動分析装置 2011年11月17日
特開 2011-228436 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 2011年11月10日
特開 2011-228475 稠密スロット透過型電極体を用いたプラズマ処理装置 2011年11月10日
特開 2011-228397 真空処理装置 2011年11月10日
特開 2011-228741 半導体ウェーハ検査装置 2011年11月10日

689 件中 76-90 件を表示

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2011-232132 2011-232473 2011-233532 2011-233708 2009-151058 2011-232354 2011-232696 2011-233721 2011-234145 2011-232359 2011-232212 2011-228436 2011-228475 2011-228397 2011-228741

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