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株式会社日立ハイテクノロジーズ

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  2011年 出願公開件数ランキング    第52位 689件 上昇2010年:第70位 624件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第98位 350件 下降2010年:第95位 307件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-228071 質量分析装置 2011年11月10日
特開 2011-228170 走査電子顕微鏡及びそれを用いた試料の観察方法 2011年11月10日
特開 2011-228072 分析装置、イオン化装置及び分析方法 2011年11月10日
特開 2011-226939 基板検査方法及び装置 2011年11月10日
特開 2011-227768 ステージ装置,それを用いた荷電粒子線装置及び縮小投影露光装置,およびステージ制御方法 2011年11月10日
特開 2011-228386 半導体装置を製造するプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2011年11月10日
特開 2011-226889 自動分析装置及び自動分析方法 2011年11月10日
特開 2011-228475 稠密スロット透過型電極体を用いたプラズマ処理装置 2011年11月10日
特開 2011-227213 プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のアライメント方法、及び表示用パネル基板の製造方法 2011年11月10日
特開 2011-228223 透過電子顕微鏡、および視野ずれ補正方法 2011年11月10日
特開 2011-226909 自動分析装置及び自動分析方法 2011年11月10日
特開 2011-228534 エッチング方法およびエッチング装置 2011年11月10日
特開 2011-228436 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 2011年11月10日
特開 2011-221245 プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板位置決め方法、及び表示用パネル基板の製造方法、並びに光学式変位計を用いた微小角度検出方法 2011年11月 4日
特開 2011-220712 高さ測定方法及び装置 2011年11月 4日

689 件中 91-105 件を表示

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2011-228071 2011-228170 2011-228072 2011-226939 2011-227768 2011-228386 2011-226889 2011-228475 2011-227213 2011-228223 2011-226909 2011-228534 2011-228436 2011-221245 2011-220712

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