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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2012-20741 | 光インプリント方法及び装置 | 2013年10月28日 | |
| 特開 2013-222910 | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 | 2013年10月28日 | |
| 特開 2013-221780 | 検体処理装置 | 2013年10月28日 | |
| 再表 2012-26569 | 液体クロマトグラフィー用充填剤、分離カラム及び液体クロマトグラフィー装置 | 2013年10月28日 | |
| 特開 2013-222734 | 荷電粒子線装置 | 2013年10月28日 | |
| 特開 2013-222878 | プラズマ熱処理方法および装置 | 2013年10月28日 | |
| 再表 2012-23354 | 電子線装置 | 2013年10月28日 | |
| 特開 2013-221761 | 欠陥観察装置 | 2013年10月28日 | |
| 特開 2013-217740 | 自動分析装置 | 2013年10月24日 | |
| 特開 2013-217816 | 液体クロマトグラフ | 2013年10月24日 | |
| 特開 2013-216955 | 真空蒸着装置 | 2013年10月24日 | |
| 特開 2013-217741 | 自動分析装置 | 2013年10月24日 | |
| 特開 2013-219401 | プラズマ処理方法のＲｕｎ−ｔｏ−Ｒｕｎ制御方法 | 2013年10月24日 | |
| 特開 2013-218198 | 基板貼り合わせ装置 | 2013年10月24日 | |
| 特開 2013-217774 | 検査装置、及び撮像素子 | 2013年10月24日 |
716 件中 106-120 件を表示
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2012-20741 2013-222910 2013-221780 2012-26569 2013-222734 2013-222878 2012-23354 2013-221761 2013-217740 2013-217816 2013-216955 2013-217741 2013-219401 2013-218198 2013-217774
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