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株式会社日立ハイテクノロジーズ

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  2011年 出願公開件数ランキング    第52位 689件 上昇2010年:第70位 624件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第98位 350件 下降2010年:第95位 307件)

(ランキング更新日:2021年12月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 4815295 プラズマ処理装置 2011年11月16日
特許 4814731 基板保持装置、検査または処理の装置、基板保持方法、検査または処理の方法および検査装置 2011年11月16日
特許 4814682 微細構造パターンの転写方法及び転写装置 2011年11月16日
特許 4815298 プラズマ処理方法 2011年11月16日
特許 4812393 蛍光分子計測システム 2011年11月 9日
特許 4812484 ボルテージコントラストを伴った欠陥をレビューする方法およびその装置 2011年11月 9日
特許 4812422 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 2011年11月 9日
特許 4810399 電子線装置用試料台 2011年11月 9日
特許 4810377 光学式検査装置 2011年11月 9日
特許 4812318 走査型電子顕微鏡を用いたパターン寸法の計測方法 2011年11月 9日
特許 4810480 軌道検測車 2011年11月 9日
特許 4804824 プラズマ処理装置 2011年11月 2日
特許 4806598 真空処理装置 2011年11月 2日
特許 4808162 基板検査装置及び基板検査方法 2011年11月 2日
特許 4808676 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 2011年11月 2日

350 件中 46-60 件を表示

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4815295 4814731 4814682 4815298 4812393 4812484 4812422 4810399 4810377 4812318 4810480 4804824 4806598 4808162 4808676

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