昭和電工株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第114位 406件
（
2011年：第79位 513件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第79位 478件
（
2011年：第88位 379件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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昭和電工株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5013776 | 電気化学デバイスおよび電気化学デバイス電解質用組成物 | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5013670 | 燃料電池用セパレータ及びその製造方法 | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5004558 | 粉砕設備およびその制御装置並びに粉砕設備における原料供給方法 | 2012年 8月22日 | 共同出願 |
| 特許 5008835 | 高分子発光材料および有機発光素子 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 5005681 | ヘキサフルオロ−１，３−ブタジエンの製造方法 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 5005137 | 亜鉛二次電池用セパレータ及びそれを用いた亜鉛二次電池 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 5007267 | 熱交換器 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 5009359 | 磁気記録媒体及びその製造方法 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 5005905 | 化合物半導体素子および化合物半導体素子製造方法 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 5005902 | 化合物半導体素子 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 5005900 | 半導体素子 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 5000111 | ペンタフルオロエタンの製造方法 | 2012年 8月15日 | |
| 特許 5001113 | プリント配線基板上にハンダ層を形成する方法及びスラリーの吐出装置 | 2012年 8月15日 | |
| 特許 5000236 | 最表面層がフッ化ニッケル膜である金属材料およびその製造方法 | 2012年 8月15日 | |
| 特許 5000786 | インク、該インクを用いて形成される燃料電池用触媒層およびその用途 | 2012年 8月15日 |
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5013776 5013670 5004558 5008835 5005681 5005137 5007267 5009359 5005905 5005902 5005900 5000111 5001113 5000236 5000786
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