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株式会社SUMCO

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  2011年 出願公開件数ランキング    第195位 221件 下降2010年:第150位 334件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第419位 79件 上昇2010年:第455位 62件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-91387 エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 2011年 5月 6日
特開 2011-91296 半導体ウェーハの研磨方法 2011年 5月 6日
特開 2011-91143 シリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 2011年 5月 6日
特開 2011-91092 シリコンウェーハの製造方法 2011年 5月 6日
特開 2011-86659 スピン洗浄装置 2011年 4月28日
特開 2011-86704 半導体ウェーハ研磨システムおよび半導体ウェーハ研磨方法 2011年 4月28日
特開 2011-84421 シリコン単結晶の引上げ方法 2011年 4月28日
再表 2009-75288 シリコン基板とその製造方法 2011年 4月28日
再表 2009-75257 シリコン基板とその製造方法 2011年 4月28日
特開 2011-86828 半導体装置およびその製造方法 2011年 4月28日
特開 2011-86706 裏面照射型固体撮像素子用エピタキシャル基板およびその製造方法 2011年 4月28日
特開 2011-86702 裏面照射型固体撮像素子用エピタキシャル基板およびその製造方法 2011年 4月28日
特開 2011-82453 貼り合わせシリコンウェーハの製造方法及び製造装置 2011年 4月21日
特開 2011-82443 エピタキシャルウェーハおよびその製造方法 2011年 4月21日
特開 2011-82372 シリコンウェーハの洗浄溶液およびそれを使用した洗浄方法 2011年 4月21日

221 件中 106-120 件を表示

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2011-91387 2011-91296 2011-91143 2011-91092 2011-86659 2011-86704 2011-84421 2009-75288 2009-75257 2011-86828 2011-86706 2011-86702 2011-82453 2011-82443 2011-82372

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