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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第81位 515件 (2013年:第90位 516件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第59位 582件 (2013年:第80位 490件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5531876 | 多結晶シリコンの破砕装置 | 2014年 6月25日 | |
特許 5533319 | NaS電池の処理設備及びNaS電池の前加工装置 | 2014年 6月25日 | |
特許 5533622 | 強誘電体薄膜形成用組成物、強誘電体薄膜の形成方法並びに該方法により形成された強誘電体薄膜 | 2014年 6月25日 | |
特許 5533411 | BiTi系酸化物スパッタリングターゲットおよびその製造方法 | 2014年 6月25日 | |
特許 5532102 | ZnO蒸着材の製造方法及び該ZnO蒸着材を用いてZnO膜を形成する方法 | 2014年 6月25日 | |
特許 5532413 | 炭窒化チタン基サーメット製切削インサートおよびその製造方法 | 2014年 6月25日 | |
特許 5531380 | 印刷用インキ及び該インキを用いた塗膜の製造方法 | 2014年 6月25日 | |
特許 5534191 | Bi4Ti3O12相を含むBiTi系酸化物ターゲットおよびその製造方法 | 2014年 6月25日 | |
特許 5532093 | ZnO蒸着材及びこれを用いたZnO膜の形成方法 | 2014年 6月25日 | |
特許 5531525 | セメントの製造方法 | 2014年 6月25日 | |
特許 5533607 | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2014年 6月25日 | |
特許 5533545 | 有機EL素子の反射電極膜形成用銀合金ターゲットおよびその製造方法 | 2014年 6月25日 | |
特許 5533544 | W−Ti系拡散防止膜およびW−Ti系拡散防止膜形成用スパッタリングターゲット | 2014年 6月25日 | |
特許 5531853 | 薄膜キャパシタの製造方法及び該方法により得られた薄膜キャパシタ | 2014年 6月25日 | |
特許 5532814 | 応力ヒューズ | 2014年 6月25日 |
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5531876 5533319 5533622 5533411 5532102 5532413 5531380 5534191 5532093 5531525 5533607 5533545 5533544 5531853 5532814
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11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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