ＪＳＲ株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第132位 382件
（
2012年：第153位 299件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第98位 420件
（
2012年：第94位 428件）
（ランキング更新日：2025年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＪＳＲ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5177430 | 化学機械研磨用水系分散体、その製造方法および化学機械研磨方法 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5176800 | カーボンナノチューブを含有する組成物および膜 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5177457 | 架橋体および架橋用組成物 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5177404 | 感放射線性樹脂組成物、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズとそれらの製造方法 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5177335 | 架橋体および架橋用組成物 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5177137 | レジスト下層膜形成用組成物 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5176976 | 硬化性組成物 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5176909 | 重合体および感放射線性樹脂組成物 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5176468 | 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5177334 | 剥離層形成用コーティング用組成物 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5177450 | 液晶配向剤、液晶配向膜の形成方法及び液晶表示素子 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5177132 | レジスト下層膜用組成物及びデュアルダマシン構造の形成方法 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5176910 | 感放射線性樹脂組成物 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5176768 | ポジ型感光性絶縁樹脂組成物 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5177040 | キャパシタ電極バインダー用組成物、キャパシタ電極用スラリーおよびキャパシタ電極 | 2013年 4月 3日 |
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5177430 5176800 5177457 5177404 5177335 5177137 5176976 5176909 5176468 5177334 5177450 5177132 5176910 5176768 5177040
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