ＪＳＲ株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第132位 382件
（
2012年：第153位 299件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第98位 420件
（
2012年：第94位 428件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＪＳＲ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5334389 | 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物及び立体造形物 | 2013年11月 6日 | 共同出願 |
| 特許 5337397 | シルセスキオキサン化合物およびその製造方法並びに屈折率変換材料および光−熱エネルギー変換蓄積材料 | 2013年11月 6日 | 共同出願 |
| 特許 5333740 | 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5333743 | 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5333261 | 偏光性回折素子 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5333741 | 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5333734 | 感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5333029 | 電気接続部材および電気接続部材の製造方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5333227 | 感放射線性組成物、及びフォトレジストパターンの形成方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5326420 | 遮光膜形成用感放射線性組成物、固体撮像素子用遮光膜及び固体撮像素子 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5327430 | 化学機械研磨用水系分散体、化学機械研磨用水系分散体の製造方法および化学機械研磨方法 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5327427 | 化学機械研磨用水系分散体調製用セット、化学機械研磨用水系分散体の調製方法、化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5326315 | 接着剤用放射線硬化性組成物、偏光板、及び、偏光板の製造方法 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5327425 | 化学機械研磨パッドおよび化学機械研磨方法 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5326419 | 遮光膜形成用感放射線性組成物、固体撮像素子用遮光膜及び固体撮像素子 | 2013年10月30日 |
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5334389 5337397 5333740 5333743 5333261 5333741 5333734 5333029 5333227 5326420 5327430 5327427 5326315 5327425 5326419
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