特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第366位　107件（2010年：第258位　187件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第252位　139件（2010年：第315位　98件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2011-227290	保護膜形成用材料及びレジストパターン形成方法	2011年11月10日
特開 2011-225486	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤	2011年11月10日
特開 2011-219506	接着剤組成物	2011年11月 4日
特開 2011-222562	剥離方法、および剥離液	2011年11月 4日
特開 2011-215270	樹脂パターンの製造方法	2011年10月27日
特開 2011-215177	レジストパターン形成方法及び樹脂の精製方法	2011年10月27日
特開 2011-209501	レジストパターン形成方法およびレジスト組成物	2011年10月20日
特開 2011-197425	表面改質材料、レジストパターン形成方法及びパターン形成方法	2011年10月 6日
特開 2011-197628	パターン形成方法	2011年10月 6日
特開 2011-190455	高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法	2011年 9月29日
特開 2011-191727	レジストパターン形成方法、ネガ型現像用レジスト組成物	2011年 9月29日
特開 2011-191734	フォトリソグラフィ用現像液及びレジストパターン形成方法	2011年 9月29日
再表 2009-139421	ポジ型感光性組成物	2011年 9月22日	共同出願
特開 2011-180520	ポジ型感光性樹脂組成物及びその硬化物	2011年 9月15日
特開 2011-180569	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および含窒素有機化合物	2011年 9月15日

107 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-227290 2011-225486 2011-219506 2011-222562 2011-215270 2011-215177 2011-209501 2011-197425 2011-197628 2011-190455 2011-191727 2011-191734 2009-139421 2011-180520 2011-180569

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数