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東京応化工業株式会社
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（
2013年：第230位 206件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第204位 207件
（2013年：第194位 216件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5600384 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年10月 1日 | |
| 特許 5597677 | 化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年10月 1日 | |
| 特許 5597460 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2014年10月 1日 | |
| 特許 5593034 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 | 2014年 9月17日 | |
| 特許 5592064 | ポジ型レジスト組成物 | 2014年 9月17日 | |
| 特許 5588396 | 高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5588113 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5586820 | 高屈折率材料 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5580800 | 積層体、およびその積層体の分離方法 | 2014年 8月27日 | |
| 特許 5576411 | 新規な化合物 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5576702 | 剥離方法及び剥離装置 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5576091 | 感光性樹脂組成物及び基材 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5572739 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 | 2014年 8月13日 | |
| 特許 5572345 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 8月13日 | |
| 特許 5572308 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 8月13日 |
207 件中 31-45 件を表示
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5600384 5597677 5597460 5593034 5592064 5588396 5588113 5586820 5580800 5576411 5576702 5576091 5572739 5572345 5572308
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