ホーム > 特許ランキング > 東京応化工業株式会社 > 2013年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件 (2012年:第333位 124件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件 (2012年:第259位 143件)
(ランキング更新日:2024年11月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5250309 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 7月31日 | |
特許 5250291 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 7月31日 | |
特許 5244446 | 塗布装置 | 2013年 7月24日 | |
特許 5244445 | 塗布装置 | 2013年 7月24日 | |
特許 5244657 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2013年 7月24日 | |
特許 5238377 | スクリューキャップの取り外し方法およびスクリューキャップの取り外し装置 | 2013年 7月17日 | 共同出願 |
特許 5237548 | リチウム二次電池用負極基材 | 2013年 7月17日 | 共同出願 |
特許 5238023 | ポジ型感光性組成物 | 2013年 7月17日 | 共同出願 |
特許 5237547 | リチウム二次電池用負極基材 | 2013年 7月17日 | 共同出願 |
特許 5238581 | 液体容器 | 2013年 7月17日 | |
特許 5238216 | 化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 7月17日 | |
特許 5238529 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 7月17日 | |
特許 5238400 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 | 2013年 7月17日 | |
特許 5238399 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 | 2013年 7月17日 | |
特許 5238354 | レジストパターン形成方法 | 2013年 7月17日 |
216 件中 121-135 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5250309 5250291 5244446 5244445 5244657 5238377 5237548 5238023 5237547 5238581 5238216 5238529 5238400 5238399 5238354
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月30日(土) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ~ つながりを育む出会いの場(知財ネットワーク交流会)~
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
茨城県龍ヶ崎市長山6-11-11 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都港区新橋6-20-4 新橋パインビル5階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市中央区北浜東1-12 千歳第一ビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング