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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第107位 416件 (2010年:第112位 429件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第67位 474件 (2010年:第72位 394件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-99070 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | 2011年 5月19日 | |
特開 2011-99008 | イソシアヌル環含有末端ビニルポリシロキサン | 2011年 5月19日 | |
特開 2011-100065 | ペリクル膜の製造方法および装置 | 2011年 5月19日 | |
特開 2011-100016 | リソグラフィー用ペリクル | 2011年 5月19日 | |
特開 2011-100844 | 静電吸着機能を有する装置及びその製造方法 | 2011年 5月19日 | |
特開 2011-96846 | 半導体装置及びその製造方法 | 2011年 5月12日 | 共同出願 |
特開 2011-96455 | 非水電解質二次電池用負極材及びその製造方法並びにリチウムイオン二次電池 | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-93772 | 耐プラズマ特性を備えたグラファイト部材 | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-93837 | ジメチルビニルシリルトリフラートの製造方法 | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-95662 | 化学増幅ポジ型レジスト材料、これを用いたレジストパターン形成方法及びメッキパターン形成方法 | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-94131 | アルコール性水酸基を有する新規のポリイミドシリコーンおよびその製造方法 | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-94115 | エポキシ基含有高分子化合物、これを用いた光硬化性樹脂組成物、パターン形成方法及び電気・電子部品保護用皮膜 | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-95661 | ペリクル | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-95593 | ペリクルフレーム及びペリクル | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-95586 | ペリクルおよびその製造方法 | 2011年 5月12日 |
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2011-99070 2011-99008 2011-100065 2011-100016 2011-100844 2011-96846 2011-96455 2011-93772 2011-93837 2011-95662 2011-94131 2011-94115 2011-95661 2011-95593 2011-95586
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月30日(土) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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