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信越化学工業株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第113位 412件
（
2013年：第95位 489件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第66位 549件
（
2013年：第86位 460件）
（ランキング更新日：2025年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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信越化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5551079 | 多孔質蓄光蛍光体セラミックス | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5553018 | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物、光学素子封止材及び光学素子 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5553006 | 熱伝導性シリコーングリース組成物 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5549638 | カルビノール基含有シリコーンの製造方法及びヒドロシリル化反応における脱水素反応抑制方法 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5549568 | 光半導体素子封止用樹脂組成物及び当該組成物で封止した光半導体装置 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5547685 | 接着剤組成物、接着シート及び半導体装置保護用材料、並びに半導体装置 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5549554 | 熱硬化性フルオロポリエーテル系接着剤組成物及びその接着方法 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5552095 | ＥＵＶ用レチクル | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5541171 | プライマー組成物及び該組成物を用いた光半導体装置 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5545029 | レジスト変性用組成物及びパターン形成方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5541266 | パターン形成膜のエッチング条件の評価方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5541265 | エッチングマスク膜の評価方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5545277 | 太陽電池及びその製造方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5542848 | 封止材積層複合体、封止後半導体素子搭載ウエハ、封止後半導体素子形成ウエハ、半導体装置、及び半導体装置の製造方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5541395 | 太陽電池の製造方法 | 2014年 7月 9日 |
549 件中 196-210 件を表示
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5551079 5553018 5553006 5549638 5549568 5547685 5549554 5552095 5541171 5545029 5541266 5541265 5545277 5542848 5541395
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