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信越化学工業株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第113位 412件
（
2013年：第95位 489件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第66位 549件
（
2013年：第86位 460件）
（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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信越化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5527821 | 耐蝕性部材 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5528489 | 多孔質ガラス母材の焼結方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5528488 | 光ファイバ母材の延伸方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5533978 | オルガノポリシロキサンの製造方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5533906 | 付加反応硬化型オルガノポリシルメチレンシロキサンコポリマー組成物 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5533821 | パターン形成方法及びレジスト組成物 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5533552 | 剥離紙又は剥離フィルム用シリコーンエマルジョン組成物、並びに剥離紙又は剥離フィルムとその製造方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5532582 | フリップチップ型半導体装置を封止する方法、チップ・オン・チップ用アンダーフィル材の選定方法、及びフリップチップ型半導体装置 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5533462 | 浸透性吸水防止材 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5527816 | ダイボンド剤組成物及び半導体装置。 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5532016 | 熱処理炉及び熱処理方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5528827 | 光アイソレータ | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5533797 | パターン形成方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5531880 | フォトマスクブランク及びその加工方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5522111 | シリコーン樹脂組成物及び当該組成物を使用した光半導体装置 | 2014年 6月18日 |
549 件中 241-255 件を表示
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5527821 5528489 5528488 5533978 5533906 5533821 5533552 5532582 5533462 5527816 5532016 5528827 5533797 5531880 5522111
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